三星将于2018年推出7nm和11nm半导体工艺
发表时间：2022年05月13日浏览量：
本文摘要：三星宣告，新的重新加入了11nmLPP工艺，性能比此前的14nm提高了15%，单位面积的功耗减少了10%。三星将于9月15日在东京举行的半导体会议上发布，未来的技术还不会有所提高。三星回应，10nm用作旗舰手机，11nm用作中高端，来获取给有所不同市场需求，预计2018年上半年在市场投入。与此同时，三星也沦为了市场上年所证实7nm的企业，其7nmLPP订于2018下半年量产，使用EUV极紫外光刻技术。
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三星宣告，新的重新加入了11nmLPP工艺，性能比此前的14nm提高了15%，单位面积的功耗减少了10%。三星将于9月15日在东京举行的半导体会议上发布，未来的技术还不会有所提高。三星回应，10nm用作旗舰手机，11nm用作中高端，来获取给有所不同市场需求，预计2018年上半年在市场投入。与此同时，三星也沦为了市场上年所证实7nm的企业，其7nmLPP订于2018下半年量产，使用EUV极紫外光刻技术。
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